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工藝流程與核心技術

金屬表面蝕刻工藝基于光化學腐蝕原理，通過曝光制版與選擇性腐蝕實現精密加工，主要包含四大步驟：

前處理：堿性脫脂（NaOH溶液）配合酸性活化（稀硫酸），清除金屬表面氧化層與污染物，提升光刻膠附著力；

圖形轉印：利用光敏材料（如重氮樹脂）制作掩膜，通過UV曝光顯影形成精密圖案，支持最小0.05mm線寬設計，這是金屬表面蝕刻工藝的精度保障；

化學蝕刻：浸入三氯化鐵或硝酸溶液中進行選擇性腐蝕，動態調節濃度（1.2-1.6g/cm3）與溫度（40-50℃），腐蝕速率穩定在0.1-0.3mm/min；

后處理：電解拋光（Ra≤0.1μm）與鈍化鍍層（鹽霧測試≥480h），提升產品耐腐蝕性與表面光潔度。

技術優勢與場景適配

金屬表面蝕刻工藝兼具高精度與高靈活性：

無機械應力：規避沖壓/切削導致的材料變形，尤其適合超薄板材（0.05-1.0mm）加工；

復雜圖形適配：支持異形鏤空、微孔陣列（孔徑0.1mm）及梯度蝕刻（深度差±0.01mm）等設計；

行業應用：

精密電子：射頻屏蔽罩（線寬公差±0.01mm）與柔性電路基板；

醫療器械：手術器械防滑紋蝕刻與鈦合金植入物表面微結構加工；

裝飾工程：不銹鋼蝕刻浮雕（深度0.2-2.0mm）結合填漆工藝。

環保升級與發展趨勢

金屬表面蝕刻工藝正向綠色化與智能化演進：

廢液循環：配備電解再生系統，廢酸利用率提升至85%以上，減少重金屬排放；

智能控制：通過AI視覺檢測實時調整蝕刻參數（如PH值波動補償），良品率超99%；

復合工藝：結合激光蝕刻（干式工藝）實現3μm以下線寬，突破濕法蝕刻精度極限。

總結：金屬表面蝕刻工藝以“精密蝕刻+環保增效”為核心競爭力，已成為航空航天、半導體等高端制造領域不可替代的加工方案，其技術迭代正推動微型化器件與功能性表面的創新發展。